工艺流程题如何突破
首先，我们要对题进行分析，工艺流程题说白了就是一个除杂题，一堆废渣中提纯我们需要的物质，通常这道题的考点会涉及以下几个：
①金属及其化合物/硅相关物质为基础
②结合离子反应与氧化还原反应
③涉及电离、水解、沉淀溶解三大平衡
所以这是一道综合性很强的题，你必须对这些知识点充分的熟悉，才能做好工艺流程题。
接下来咱们探讨一下具体流程，及其注意事项，可能涉及的流程具体如下：
①灼烧/焙烧/煅烧：
一般这三个都要在高温条件下进行，需要的主要仪器是坩埚，通常有氧气参与反应；
它的目的：使金属及其化合物转化为氧化物，使非金属碳，氢，硫等元素转化为二氧化碳，水和二氧化硫除去。
②溶浸：分酸溶法和碱溶法。
这里要分清哪些物质能溶于对应酸和碱，哪些不溶，溶则在滤液中，不溶在滤渣中，如硅/二氧化硅/硅酸溶于碱，而它不溶于强酸；铝/氧化铝/氢氧化铝有两性，与其他金属不同，其他金属都不溶。
如何提高浸取率或溶浸速率：
⒈适当升高温度⒉适当提高xx溶液的浓度⒊粉碎/研磨⒋搅拌
③氧化/还原
这里通常会让写氧化还原方程式哦，上个内容已经分享给大家了。
提醒一下：观察价态变化很重要，常常见到的将亚铁离子转化为铁离子。
④调节PH值
通常酸性环境咱们PH要调高一点，促进一些金属离子水解，使其沉淀。通常三价铁离子完全沉淀的PH值大概在3.0左右，而铝离子大概在5.0左右。还有这里可能会让你写双水解的方程式哦。
碱性环境自然要调低一点，也是促进离子沉淀的作用。
⑤溶液晶体的处理
难挥发，难分解，难水解的物质的操作流程：蒸发浓缩，冷却结晶，过滤，洗涤，干燥。除氯化钠，氯化钾，氯化钙，氯化钡以外的氯化物都不可以直接蒸干，合理的操作：在HCl氛围中蒸发结晶。物质的溶解度随温度升高而减小的物质：蒸发浓缩，趁热过滤。
以上就是工艺流程题中大致的步骤，只有梳理好流程，弄懂题才能下笔如有神。今天的分享就到这里，明天我们会继续说一下工艺流程答题模板。
愿你学习一日比一日进步，努力拼搏，不负韶华。
